Strona głównaVECO • NASDAQ
add
Veeco Instruments Inc
26,13 $
Przed otwarciem giełdy:(0,00%)0,00
26,13 $
Zamknięte: 14 sty, 04:00:05 GMT-5 · USD · NASDAQ · Wyłączenie odpowiedzialności
Poprz. zamknięcie
26,69 $
Zakres dzienny
25,77 $ - 26,36 $
Zakres roczny
25,52 $ - 49,25 $
Kapitalizacja rynkowa
1,48 mld USD
Śr. liczba
602,56 tys.
Wskaźnik C/Z
19,58
Dochód z dywidendy
-
Główna giełda
NASDAQ
W wiadomościach
Finansowe
Rachunek wyników
Przychód
Dochód netto
(USD) | wrz 2024info | Zmiana R/R: |
---|---|---|
Przychód | 184,81 mln | 4,20% |
Koszty operacyjne | 50,28 mln | -7,94% |
Dochód netto | 21,95 mln | -10,67% |
Marża zysku netto | 11,88 | -14,22% |
Zysk na akcję | 0,46 | -13,21% |
EBITDA | 35,09 mln | 23,35% |
Efektywna stawka podatkowa | 10,98% | — |
Bilans finansowy
Aktywa łącznie
Zobowiązania łącznie
(USD) | wrz 2024info | Zmiana R/R: |
---|---|---|
Inwestycje gotówkowe i krótkoterminowe | 320,76 mln | 11,94% |
Aktywa łącznie | 1,27 mld | 2,14% |
Zobowiązania łącznie | 526,35 mln | -12,53% |
Łączny kapitał | 746,52 mln | — |
Należne akcje | 56,78 mln | — |
Wskaźnik P/BV | 2,03 | — |
Wskaźnik rentowności aktywów | 5,77% | — |
Zwrot z kapitału | 6,92% | — |
Przepływ środków pieniężnych
Zmiana netto stanu środków pieniężnych
(USD) | wrz 2024info | Zmiana R/R: |
---|---|---|
Dochód netto | 21,95 mln | -10,67% |
Gotówka z operacji | 17,61 mln | 149,70% |
Środki z inwestycji | -29,61 mln | -0,22% |
Środki z finansowania | 895,00 tys. | 153,95% |
Zmiana netto stanu środków pieniężnych | -10,97 mln | 54,61% |
Wolne przepływy pieniężne | 12,25 mln | 278,92% |
Informacje
Veeco Instruments Inc. is a global capital equipment supplier, headquartered in the U.S., that designs and builds processing systems used in semiconductor and compound semiconductor manufacturing, data storage and scientific markets for applications such as advanced packaging, photonics, power electronics and display technologies.
Veeco's processing system capabilities include laser annealing, photolithography, ion beam etch and deposition, metal organic chemical vapor deposition, wet wafer processing, molecular beam epitaxy, atomic layer deposition, physical vapor deposition, dicing and lapping, and gas and vapor delivery.
These technologies are used to enable artificial intelligence, virtual and augmented reality, high performance computing, autonomous vehicles, 5G wireless communication networks and cloud storage. Wikipedia
Prezes (zarządu)
Data i miejsce założenia
1945
Główne siedziby
Strona internetowa
Pracownicy
1 215